Қазақстан, Алматы, Қонаев көшесі, 142
«Д.В. Сокольский атындағы Жанармай, катализ және электрохимия институты» АҚДәстүр. Білім. Болашақ технологиялары.
«Ғылым мен технология — тұрақты өнеркәсіптік дамудың негізі»Д.В. Сокольский атындағы ЖКЭИ
Іргелі зерттеулер
Қолданбалы шешімдер
Өнеркәсіптік ынтымақтастық
Түйіндемедегі библиографиялық жазба

Түйіндемедегі жарияланым — Пузикова Дарья Сергеевна

Пузикова Дарья Сергеевна

Толық библиографиялық жазба

Dergacheva M.B., Puzikova D.S., Khussurova G.M., P.V. Panchenko. Chemical deposition of bismuth iodide sulfide semiconductor thin films. Доклады НАН РК. Серия химия и технология. – 2021. –№5 (на английском языке)